当前位置:首页 > 国家标准 > GB/T 40279-2021

GB/T 40279-2021 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法

下载格式:pdf标准分类:国家标准

GB/T 40279-2021标准基本信息

标准名称:硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法

标准号:GB/T 40279-2021

发布日期:2021-08-20

实施日期:2022-03-01

中国标准分类:H21

国际标准分类:77 冶金,77.040 金属材料试验

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会

主管部门:国家标准化管理委员会

国家标准《硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

有研半导体材料有限公司、山东有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、优尼康科技有限公司、中环领先半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、翌颖科技(上海)有限公司、开化县检验检测研究院。

GB/T 40279-2021预览图:

GB/T 40279-2021 硅片表面薄膜厚度的测试  光学反射法

声明:资源收集自用户分享或网络,仅为个人学习参考使用,如侵犯您的权益,请联系我们处理。

不能下载?报告错误