随着光伏产业对高效、低成本钝化技术需求的日益增长，热原子层沉积（TALD）技术因其优异的薄膜均匀性、精确的厚度控制以及良好的表面覆盖能力，在晶体硅太阳电池钝化层制备中展现出重要应用前景。氧化铝（Al₂O₃）和氧化钛（TiO₂）作为两种典型的介质薄膜，分别因其优异的场效应钝化性能和化学钝化特性而受到关注。本项研究聚焦于利用热原子层沉积技术制备Al₂O₃和TiO₂薄膜，系统探究其在不同沉积温度、薄膜厚度及后退火处理条件下的微观结构、光学特性及对晶体硅表面的钝化效果。通过对比分析两种氧化物的钝化机制，旨在优化热原子层沉积工艺参数，提升钝化层质量，为高效晶体硅太阳电池的界面工程提供理论与实验依据。
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热原子层沉积氧化铝和氧化钛的晶体钝化研究