T/ICMTIA 5.3-2020标准基本信息
标准名称：集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法
标准状态：现行
标准编号：T/ICMTIA 5.3—2020
中文标题：集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法
英文标题：Lithography ArF Photo Resist of measurement for Intergraded circuits
国际标准分类号：29.045
中国标准分类号：G64
国民经济分类：C266 专用化学产品制造
发布日期：2020年12月31日
实施日期：2021年03月01日
起草人：许从应、毛智彪、马潇、顾大公、李珊珊
起草单位：宁波南大光电材料有限公司
范围：本文件适用于集成电路用ArF光刻胶。
是否包含专利信息：否