本文基于徐云飞的研究，对铸造多晶硅中底部阴影的形成进行了分析。底部阴影是铸造多晶硅锭常见的一种缺陷，主要出现在硅锭底部区域，肉眼观察呈暗色斑块或条纹。研究表明，这种阴影的形成与铸造过程中的热场分布、杂质偏聚以及晶体生长条件密切相关，其中碳、氧等杂质的不均匀分布和沉淀是关键因素。徐云飞通过实验与理论分析，探讨了热场优化与工艺参数调整对抑制底部阴影的作用机理，旨在为提升多晶硅质量提供理论参考。
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铸造多晶硅中底部阴影的形成分析-徐云飞