PN结通过将P型半导体和N型半导体紧密接触形成。在接触界面,P区空穴浓度高,N区电子浓度高,导致载流子浓度差。空穴从P区向N区扩散,电子从N区向P区扩散。扩散后,界面附近P区留下带负电的电离受主,N区留下带正电的电离施主,形成空间电荷区,产生内建电场。内建电场方向从N区指向P区,阻碍扩散运动,同时驱动少数载流子做漂移运动。当扩散与漂移达到动态平衡时,空间电荷区宽度稳定,PN结形成,具有单向导电性。
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PN结形成原理
PN结通过将P型半导体和N型半导体紧密接触形成。在接触界面,P区空穴浓度高,N区电子浓度高,导致载流子浓度差。空穴从P区向N区扩散,电子从N区向P区扩散。扩散后,界面附近P区留下带负电的电离受主,N区留下带正电的电离施主,形成空间电荷区,产生内建电场。内建电场方向从N区指向P区,阻碍扩散运动,同时驱动少数载流子做漂移运动。当扩散与漂移达到动态平衡时,空间电荷区宽度稳定,PN结形成,具有单向导电性。
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