YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶

YS/T 718-2009标准基本信息

标准名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶

标准号：YS/T 718-2009

发布日期：2009-12-04

实施日期：2010-06-01

制修订：制定

中国标准分类：H63

国际标准分类：77.150.99

技术归口：全国有色金属标准化技术委员会

批准发布部门：工业和信息化部

行业分类：无

标准类别：无

起草单位：利达光电股份有限公司

起草人：李智超、杨太礼 等