管式PECVD法沉积的SiyNx/SiOxNy叠层膜的研究旨在通过等离子体增强化学气相沉积技术制备具有优异光学和钝化性能的多层薄膜结构。该叠层膜结合了氮化硅的高折射率、低缺陷密度和氧化氮化硅的可调光学特性，能够有效降低表面复合速率并增强光吸收。实验中，通过精确控制气体流量、射频功率、沉积温度和退火条件，优化了薄膜的化学组成、界面质量和厚度均匀性。研究表明，该叠层膜在太阳能电池、光电器件及微电子应用中表现出良好的稳定性和抗反射效果，为提升器件效率提供了可行方案。
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管式PECVD法沉积的SiyNx SiOxNy叠层膜的研究