本文围绕单晶硅片制绒工艺中不均匀性对等离子体增强化学气相沉积（PECVD）镀膜过程的影响展开研究。通过分析制绒不均匀的成因、表征方法及其对PECVD沉积膜层均匀性、附着力和光电性能的影响，揭示了制绒质量与后续工艺之间的关联机制。研究旨在优化制绒参数，减少不均匀性，以提高PECVD镀膜的一致性和电池转换效率，为高效太阳能电池制造提供参考。
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单晶硅片制绒不均匀性对PECVD的影响-杜俊霖
单晶硅片制绒不均匀性对PECVD的影响-杜俊霖