标准号：T/CEMIA 030-2022
标准名称：半导体用正胶显影液
英文名称：Positive photoresist developer for semiconductor manufacture
发布日期：2022-04-20
实施日期：2022-07-20
本文件规定了半导体用正胶显影液的分类和标记、要求、检验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存和安全。 本文件适用于半导体用正胶显影液，其主要组分为通过季铵盐化合物电解制得的四甲基氢氧化铵。 四甲基氢氧化铵的基本信息见附录A中的A.1。
起草人：邢攸美、李潇逸、张之钧、赵健、胡涛、李盈盈、陈东良、顾峻、徐文干、孙炜、刘新雨、王琪、周利超、李林佳、余红刚、倪芸岚、陈海刚、杨小平、章帅迪、刘永南、姚艺融、刘为波、翁雪平、傅华、高小云
起草单位：杭州格林达电子材料股份有限公司
发布部门：中国电子材料行业协会
